涂層測(cè)厚儀的選型及影響因素

 涂層測(cè)厚儀的選型及影響因素
  用戶可以根據(jù)測(cè)量的需要選用不同的測(cè)厚儀，磁性測(cè)厚儀和渦流測(cè)厚儀一般測(cè)量的厚度適用0-5毫米，這類儀器又分探頭與主機(jī)一體型，探頭與主機(jī)分離型，前者操作便捷，后者適用于測(cè)非平面的外形。更厚的致密材質(zhì)材料要用超聲波測(cè)厚儀來測(cè)，測(cè)量的厚度可以達(dá)到0.7-250毫米。電解法測(cè)厚儀適合測(cè)量很細(xì)的線上面電鍍的金，銀等金屬的厚度。

　　兩用型

　　儀器由德國生產(chǎn)，集合了磁性測(cè)厚儀和渦流測(cè)厚儀兩種儀器的功能，可用于測(cè)量鐵及非鐵金屬基體上涂層的厚度。如：

　　鋼鐵上的銅、鉻、鋅等電鍍層或油漆、涂料、搪瓷等涂層厚度。

　　鋁、鎂材料上陽極氧化膜的厚度。

　　銅、鋁、鎂、鋅等非鐵金屬材料上的涂層厚度。

　　鋁、銅、金等箔帶材及紙張、塑料膜的厚度。

　　各種鋼鐵及非鐵金屬材料上熱噴涂層的厚度。

　　儀器符合標(biāo)準(zhǔn)GB/T4956和GB/T4957，可用于生產(chǎn)檢驗(yàn)、驗(yàn)收檢驗(yàn)及質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)。

　　儀器特點(diǎn)

　　采用雙功能內(nèi)置式探頭，自動(dòng)識(shí)別鐵基或非鐵基體材料，并選擇相應(yīng)的測(cè)量方式進(jìn)行準(zhǔn)確測(cè)量。

　　符合人體工程學(xué)設(shè)計(jì)的雙顯示屏結(jié)構(gòu)，可以在任何測(cè)量位置讀取測(cè)量數(shù)據(jù)。

　　采用手機(jī)菜單式功能選擇方式，操作十分簡(jiǎn)便。

　　可設(shè)定上下限值，測(cè)量結(jié)果超出或符合上下限數(shù)值時(shí)，儀器會(huì)發(fā)出相應(yīng)的聲音或閃爍燈提示。

　　穩(wěn)定性*，通常不必校正便可長(zhǎng)期使用。

　　技術(shù)規(guī)格

　　量程：0～2000μm,

　　電源：兩節(jié)5號(hào)電池

　　標(biāo)準(zhǔn)配置

　　常規(guī)型

　　對(duì)材料表面保護(hù)、裝飾形成的覆蓋層，如涂層、鍍層、敷層、貼層、化學(xué)生成膜等，在有關(guān)和標(biāo)準(zhǔn)中稱為覆層（coating）。

　　覆層厚度測(cè)量已成為加工工業(yè)、表面工程質(zhì)量檢測(cè)的重要一環(huán)，是產(chǎn)品達(dá)到優(yōu)等質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)的手段。為使產(chǎn)品化，我國出口商品和涉外項(xiàng)目中，對(duì)覆層厚度有了明確的要求。

　　覆層厚度的測(cè)量方法主要有：楔切法，光截法，電解法，厚度差測(cè)量法，稱重法，X射線熒光法，β射線反向散射法，電容法、磁性測(cè)量法及渦流測(cè)量法等。這些方法中前五種是有損檢測(cè)，測(cè)量手段繁瑣，速度慢，多適用于抽樣檢驗(yàn)。

　　X射線和β射線法是無接觸無損測(cè)量，但裝置復(fù)雜昂貴，測(cè)量范圍較小。因有放射源，使用者必須遵守射線防護(hù)規(guī)范。X射線法可測(cè)極薄鍍層、雙鍍層、合金鍍層。β射線法適合鍍層和底材原子序號(hào)大于3的鍍層測(cè)量。電容法僅在薄導(dǎo)電體的絕緣覆層測(cè)厚時(shí)采用。

　　隨著技術(shù)的日益進(jìn)步，特別是近年來引入微機(jī)技術(shù)后，采用磁性法和渦流法的測(cè)厚儀向微型、智能、多功能、高精度、實(shí)用化的方向進(jìn)了一步。測(cè)量的分辨率已達(dá)0.1微米，精度可達(dá)到1%，有了大幅度的提高。它適用范圍廣，量程寬、操作簡(jiǎn)便且價(jià)廉，是工業(yè)和科研使用廣泛的測(cè)厚儀器。

　　采用無損方法既不破壞覆層也不破壞基材，檢測(cè)速度快，能使大量的檢測(cè)工作經(jīng)濟(jì)地進(jìn)行。

　　影響因素

　　a基體金屬磁性質(zhì)

　　磁性法測(cè)厚受基體金屬磁性變化的影響（在實(shí)際應(yīng)用中，低碳鋼磁性的變化可以認(rèn)為是輕微的），為了避免熱處理和冷加工因素的影響，應(yīng)使用與試件基體金屬具有相同性質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)片對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn)；亦可用待涂覆試件進(jìn)行校準(zhǔn)。

　　b基體金屬電性質(zhì)

　　基體金屬的電導(dǎo)率對(duì)測(cè)量有影響，而基體金屬的電導(dǎo)率與其材料成分及熱處理方法有關(guān)。使用與試件基體金屬具有相同性質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)片對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn)。

　　c基體金屬厚度

　　每一種儀器都有一個(gè)基體金屬的臨界厚度。大于這個(gè)厚度，測(cè)量就不受基體金屬厚度的影響。本儀器的臨界厚度值見附表1。

　　d邊緣效應(yīng)

　　本儀器對(duì)試件表面形狀的陡變敏感。因此在靠近試件邊緣或內(nèi)轉(zhuǎn)角處進(jìn)行測(cè)量是不可靠的。

　　e曲率

　　試件的曲率對(duì)測(cè)量有影響。這種影響總是隨著曲率半徑的減少明顯地增大。因此，在彎曲試件的表面上測(cè)量是不可靠的。

　　f試件的變形

　　測(cè)頭會(huì)使軟覆蓋層試件變形，因此在這些試件上測(cè)出可靠的數(shù)據(jù)。

　　g表面粗糙度

　　基體金屬和覆蓋層的表面粗糙程度對(duì)測(cè)量有影響。粗糙程度增大，影響增大。粗糙表面會(huì)引起系統(tǒng)誤差和偶然誤差，每次測(cè)量時(shí)，在不同位置上應(yīng)增加測(cè)量的次數(shù)，以克服這種偶然誤差。如果基體金屬粗糙，還必須在未涂覆的粗糙度相類似的基體金屬試件上取幾個(gè)位置校對(duì)儀器的零點(diǎn)；或用對(duì)基體金屬?zèng)]有腐蝕的溶液溶解除去覆蓋層后，再校對(duì)儀器的零點(diǎn)。

　　g磁場(chǎng)

　　周圍各種電氣設(shè)備所產(chǎn)生的強(qiáng)磁場(chǎng)，會(huì)嚴(yán)重地干擾磁性法測(cè)厚工作。

　　h附著物質(zhì)

　　本儀器對(duì)那些妨礙測(cè)頭與覆蓋層表面緊密接觸的附著物質(zhì)敏感，因此，必須清除附著物質(zhì)，以保證儀器測(cè)頭和被測(cè)試件表面直接接觸。

　　i測(cè)頭壓力

　　測(cè)頭置于試件上所施加的壓力大小會(huì)影響測(cè)量的讀數(shù)，因此，要保持壓力恒定。

　　j測(cè)頭的取向

　　測(cè)頭的放置方式對(duì)測(cè)量有影響。在測(cè)量中，應(yīng)當(dāng)使測(cè)頭與試樣表面保持垂直。

　　應(yīng)當(dāng)遵守的規(guī)定

　　a基體金屬特性

　　對(duì)于磁性方法，標(biāo)準(zhǔn)片的基體金屬的磁性和表面粗糙度，應(yīng)當(dāng)與試件基體金屬的磁性和表面粗糙度相似。

　　對(duì)于渦流方法，標(biāo)準(zhǔn)片基體金屬的電性質(zhì)，應(yīng)當(dāng)與試件基體金屬的電性質(zhì)相似。

　　b基體金屬厚度

　　檢查基體金屬厚度是否超過臨界厚度，如果沒有，可采用3.3中的某種方法進(jìn)行校準(zhǔn)。

　　c邊緣效應(yīng)

　　不應(yīng)在緊靠試件的突變處，如邊緣、洞和內(nèi)轉(zhuǎn)角等處進(jìn)行測(cè)量。

　　d曲率

　　不應(yīng)在試件的彎曲表面上測(cè)量。

　　e讀數(shù)次數(shù)

　　通常由于儀器的每次讀數(shù)并不*相同，因此必須在每一測(cè)量面積內(nèi)取幾個(gè)讀數(shù)。覆蓋層厚度的局部差異，也要求在任一給定的面積內(nèi)進(jìn)行多次測(cè)量，表面粗造時(shí)更應(yīng)如此。

　　f表面清潔度

　　測(cè)量前，應(yīng)清除表面上的任何附著物質(zhì)，如塵土、油脂及腐蝕產(chǎn)物等，但不要除去任何覆蓋層物質(zhì)

style='font-size:9.0pt; color:black'>　　通常由于儀器的每次讀數(shù)并不*相同，因此必須在每一測(cè)量面積內(nèi)取幾個(gè)讀數(shù)。覆蓋層厚度的局部差異，也要求在任一給定的面積內(nèi)進(jìn)行多次測(cè)量，表面粗造時(shí)更應(yīng)如此。

　　f表面清潔度

　　測(cè)量前，應(yīng)清除表面上的任何附著物質(zhì)，如塵土、油脂及腐蝕產(chǎn)物等，但不要除去任何覆蓋層物質(zhì)